1. 柯达显影液，显影液是危化品吗？
显影液是属于危险废物，Ⅱ类易燃品。属于危废名录里HW16感光材料废物，印刷行业，231-002-16 使用显影剂进行印刷显影、抗蚀图形显影，以及凸版印刷产生的废显(定)影液、胶片及废像纸 。
显影液是一种重要的湿电子化学品，也是半导体、显示面板、太阳能电池制作过程中关键的原材料之一。显影液质量的优劣，直接影响电子产品的质量，电子行业对显影液的一般要求是超净和高纯。半导体、显示面板、太阳能电池等行业发展速度快，属于国家大力发展的战略新兴行业。显影液的市场需求会随着这些行业的快速发展而不断增长，同时也拉动了生产显影液的主要原材料—碳酸二甲酯（DMC）的需求。
2. 120和135还有什么胶卷可以选？
时下玩胶卷的多以黑白为主，黑白胶片的尺寸一般分为三大类：盘片、卷装和页片，现时买到的可能是有卷张胶片了。
市面上的120黑白彩色胶卷可选择的应该不多了。120和135反转片估计成“珍稀动物”了。
全色胶片是黑白摄影使用最为广泛的胶片，柯达的TMA-X100和伊尔福的DELTA100是新型的中速黑白胶卷，它们都具极细的颗粒，解像力高、曝光宽容度大的特点。
135黑白胶卷的柯达、伊尔福、富士还有销售。
柯达（KODAK）TMA-X
属于传统的高速全色胶卷，颗粒性、锐利度的表现十分优越，特别是两部和暗部的影调区分表现十分优秀。影调可以借助调整显影时间的方式去改变反差，最受黑白摄影玩家的欢迎。
TMA-X 100
柯达TMA-X100、400胶卷可按照按标称的感光度调高一级，而无需要进行强制显影。
柯达TRI-X
属于高速传统的银盐全色胶卷，适合增感显影。
伊尔福（ILFORD）DELTA
伊尔福的DELTA100，DELTA400是新型的中速黑白胶卷，高对比、高细致度、微粒子性、灰阶色调优美等。最重要的是它十分常见，使用了ILFORD特殊的结晶技术，加上绝大部份显影液都可以用于ILFORD Delta上，是最容易冲洗的底片之一。
HP5
伊尔福的经典胶片 算是比较高端的胶片 虽然细腻度不比delta 但是过度自然 颗粒完美，HP5是厚乳胶剂型，灰度丰富，锐度一般，耐迫冲。
胶卷存储厂家通常建议在不超过24度温度下在室内保存2个月，为了延长胶片的存储期，不少发烧友会将胶片放在冰箱里存储，但也注意不要超出包装上的保存期。
3. 显影液为什么是碱性的？
显影液指的是洗相片时适用的化学药剂，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等。
4. 电影卷与一般胶卷的区别？
A. 分装方式不同
▲ 柯达5222电影卷盘片我们常用的135、120胶卷一般按卷售卖，而电影胶卷则是按尺论价的，市面上能买到的电影卷大部分经由店家自行将盘片进行分装，再按每卷36张装入暗盒内，方便拍摄者使用。
B. 构成不同相比普通彩负卷，电影卷多了一层炭黑层，炭黑层的作用一是用来防止光晕，二是电影机高速旋转防止静电电弧产生火花导致底片曝光。
C. 冲洗工艺不同▲柯达D-76显影粉普通的彩色负片一般采用C-41工艺、黑白负片一般采用D-76工艺、彩色反转片一般采用E-6工艺。而电影卷的彩色负片则采用ECN-2工艺冲洗，使用C-41冲洗时需多一步前浴、水洗的步骤，否则会污染显影液。黑白、反转电影卷则可按常用卷的冲洗工艺。#不同胶卷之间的特性，受所用器材、前期拍摄环境（色温/光源/曝光等）、中期冲洗工艺、后期扫描输出等多方面因素的影响，需亲自摸索调试方能了解一二，在此不做累述。
5. 胶片拍完后经过什么处理后可在光下观看？
胶片拍完后要经过冲洗才能在光下观看。大体讲，手工冲洗要经过：显影——水洗——定影——水洗——晾干等几个步骤。现在基本都采用机器冲洗，一步完成。
6. 去胶液显影液的成分是什么啊？
1、去胶液由松节油、松香水、120#汽油、煤油等混合调配制成。化学成分包括有：苯、甲苯、二甲苯、丙酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙醇等。
去胶液无色无味，用于分解去除固化后的502、1203胶水、1206瞬间胶体，还可以清洗不干胶等，不会损伤到胶粘剂附接的材料。
2、显影液化学成分主要有：硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银等硼酸、对苯二酚配合等。
对苯二酚对皮肤、粘膜有强烈的腐蚀作用，吸入、食入、经皮吸收均会影响。显影剂是指将感光材料经曝光后产生的潜影显现成可见影像的药剂。从化学的组分来看，显影剂可以分为无机化合物和有机化合物两大类。
7. 显影液与光刻胶的区别？
显影液是洗相片时适用的化学药剂，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等。显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能，通常还加一些其他成分，诸如促进显影的促进剂，防止显影剂氧化的保护剂，防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。
光刻胶，别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
